bandao.com电子行业半导体设备系列:光刻机半导体制造皇冠上的明珠

  新闻资讯     |      2024-04-30 07:10

  bandao.com电子行业半导体设备系列:光刻机半导体制造皇冠上的明珠光刻机演变史,目前以步进式为主,EUV 应用于先进制程。光刻机在1985年之前,以g 线 年以后,出现少量i 线 年开始出现DUV 光刻机;踏入21 世纪bandao.com,193nm 的深紫外线nm 的EUV 在近十年兴起,应用于先进制程。EUV 的高分辨率大幅降低重复曝光所需要的沉积、刻蚀等工艺步骤bandao.com。光刻机从分类方式的演变,从接触式向接近式,最后演变成步进式为主。

  2020 年,全球光刻机市场约135 亿美元,占全球半导体制造设备市场21%bandao.com。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高,具有较高技术难度,并且单台设备价值量也较高,属于半导体制造设备的“皇冠”。